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Layer-by-layer growth and growth-mode transition of SrRuO3 thin films on atomically flat single-terminated SrTiO3 (111) surfaces

机译:srRuO3薄膜的逐层生长和生长模式转变   原子级扁平单端srTiO3(111)表面

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摘要

We report on growth-mode transitions in the growth of SrRuO3 thin films onatomically flat Ti4+ single-terminated SrTiO3 (111) substrates, investigated byreflection high-energy electron diffraction and atomic force microscopy. Overthe first ~9 unit cells, the dominant growth mode changes from island tolayer-by-layer for the growth rate of 0.074 unit cells/sec and the growthtemperature of 700 C. Moreover, in the course of growing SrRuO3 films, thegoverning growth mode of interest can be manipulated by changing the growthtemperature and the growth rate, which change allows for the selection of thedesired layer-by-layer mode. The present study thus paves the way forintegrations of SrRuO3 thin layers into (111)-orientated oxideheterostructures, and hence multi-functional devices, requiring control of thesharp atomic-level interfaces and the layer-by-layer growth mode.
机译:我们通过反射高能电子衍射和原子力显微镜研究了SrRuO3薄膜在平坦的Ti4 +单端SrTiO3(111)衬底上的生长模式转变。在最初的约9个单位细胞中,对于0.074个单位细胞/秒的生长速度和700°C的生长温度,主要的生长模式从岛到层逐层变化。可以通过改变生长温度和生长速率来控制兴趣,这种变化允许选择所需的逐层模式。因此,本研究为将SrRuO3薄层集成到(111)取向的氧化物异质结构以及多功能器件中铺平了道路,这些器件需要控制尖锐的原子级界面和逐层生长模式。

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